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第三代半導體材料產(chǎn)業(yè)化的機遇和挑戰(zhàn)

從第三代半導體材料的技術(shù)趨勢來看,大尺寸和高質(zhì)量SiC生長技術(shù)是未來發(fā)展的趨勢,同質(zhì)外延依然是GaN器件的技術(shù)改進方向,所以高質(zhì)量GaN襯底的研發(fā)還將繼續(xù)
資訊頻道文章B

  前言:目前我國第三代半導體材料市場仍以日美歐廠商為主角,但近幾年我國已經(jīng)開始大力扶持第三代半導體產(chǎn)業(yè)。2016年國務院出臺了《“十三五”國家科技創(chuàng)新規(guī)劃》,明確提出以第三代半導體材料為核心,以搶占先進電子材料技術(shù)的制高點。

  第三代半導體材料發(fā)展情況

  第三代半導體材料主要是以碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)、氧化鋅(ZnO)、金剛石、氮化鋁(AlN)為代表的寬禁帶半導體材料。

  與第一、二代半導體材料相比,第三代半導體材料具有更寬的禁帶寬度、更高的擊穿電場、更高的熱導率、更高的電子飽和速率及更高的抗輻射能力,更適合于制作高溫、高頻、抗輻射及大功率器件,通常又被稱為寬禁帶半導體材料(禁帶寬度大于2.3eV),亦被稱為高溫半導體材料。

  從目前第三代半導體材料及器件的研究來看,較為成熟的第三代半導體材料是碳化硅和氮化鎵,而氧化鋅、金剛石、氮化鋁等第三代半導體材料的研究尚屬起步階段。碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN),被行業(yè)稱為第三代半導體材料的雙雄。

  由于第三代半導體材料及其制作的器件的優(yōu)越性、實用性和戰(zhàn)略性,許多發(fā)達國家將第三代半導體材料列入國家計劃,全面部署,竭力搶占戰(zhàn)略制高點。目前美歐日具備較為成熟的GaN半導體材料產(chǎn)業(yè)體系。

  ▼ 三代半導體材料性能對比

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  國外20世紀80年代開始對GaN半導體材料進行研究,并已經(jīng)形成了比較完善的產(chǎn)業(yè)體系,而我國第三代半導體研究起步較晚,目前尚處于初步的產(chǎn)業(yè)格局階段。

  我國第三代半導體材料產(chǎn)業(yè)化情況

  目前,我國第三代半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展初步形成了京津冀、長三角、珠三角、閩三角、中西部等五大重點發(fā)展區(qū)域。從2015年下半年至2018年底,從已披露的第三代半導體項目投資總額來看,五大地區(qū)的投資額占比分別為長三角區(qū)域63%、中西部區(qū)域14%、京津冀6%、閩三角5%、珠三角區(qū)域2%。

  長三角地區(qū)第三代半導體產(chǎn)業(yè)集聚能力凸顯,投資總額607億元,其中,2018年投資總額超過550億元(其中積塔半導體的359億元投資以SiC電力電子器件產(chǎn)線為主)。北京、深圳、廈門、泉州、蘇州等代表性城市在2018年深入部署、多樣并舉,有序推動第三代半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展。

  目前國內(nèi)第三代半導體材料產(chǎn)業(yè)從數(shù)量上來看已具備一定規(guī)模,初步形成了一個較為完整的產(chǎn)業(yè)鏈。國內(nèi)第三代半導體材料的主要廠商及產(chǎn)業(yè)鏈格局情況如下:

  ●  襯底供應商~SiC襯底:山東天岳、河北同光、天科合達、江西晶能等;GaN襯底:蘇州納維、東莞中鎵等;

  ● 外延供應商~中蕊光電、鎵芯河北、英諾賽科、江蘇華功、大連芯冠、江蘇能華、蘇州晶港、蘇州能訊、中電55所、中電13所、海威華芯等;

  ● 器件、模組供應商~電力電子器件:江蘇能華、江蘇華功、英諾賽科、大連芯冠、中電55所;微波射頻器件:中電55所、中電13所、蘇州能訊、中芯光電;UV探測器:中芯光電、鎵芯光電;LED照明:華燦光電、深圳兆馳、聚燦光電、三安光電等;產(chǎn)業(yè)代工:臺積電、穩(wěn)惠、三安光電、海威華芯、方正微電子等。

  我國第三代半導體材料市場及應用

  2018年,在國內(nèi)市場和國際市場雙雙推動下,國內(nèi)第三代半導體產(chǎn)業(yè)繼續(xù)發(fā)力向前推進。據(jù)第三代半導體產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟統(tǒng)計,2018年我國第三代半導體整體產(chǎn)值約為7423億元(包括半導體照明),較2017年同比增長近13%。其中電力電子產(chǎn)值規(guī)模近12.3億元,較上年增長23%以上;微波射頻產(chǎn)值規(guī)模36.7億元,較上年增長了20%;光電(主要為半導體照明)產(chǎn)值規(guī)模為7374億元,較上年增長近13%。

  GaN射頻器件已成功應用于眾多領(lǐng)域,以無線基礎(chǔ)設(shè)施和國防應用為主,還包括衛(wèi)星通信、民用雷達和航空電子等領(lǐng)域。據(jù)Yole統(tǒng)計,2018年全球3W以上GaN射頻器件(不含手機PA)市場規(guī)模達到4.57億美元,在射頻器件市場(包括Si LDMOS、GaAs和GaN)的滲透率超過25%。預計到2023年市場規(guī)模將達到13.24億美元,年復合增長率超過23%。

  國防是GaN射頻器件最主要的應用領(lǐng)域。由于對高性能的需求和對價格的不敏感,國防市場為GaN射頻器件提供了廣闊的發(fā)展空間。據(jù)Yole統(tǒng)計,2018年國防領(lǐng)域GaN射頻器件市場規(guī)模為2.01億美元,占GaN射頻器件市場的份額達到44%,超過基站成為最大的應用市場。GaN射頻器件在國防領(lǐng)域的市場規(guī)模將隨著滲透率的提高而繼續(xù)增長,預計到2023年,市場規(guī)模將達到4.54億美元,2018-2023年均復合增速為18%。

  ▼ 第三代半導體材料用途

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  基站是GaN射頻器件第二大應用市場。據(jù)據(jù)Yole統(tǒng)計,2018年基站領(lǐng)域GaN射頻器件市場規(guī)模為1.5億美元,占GaN射頻器件市場33%的份額。隨著5G通信的實施,2019-2020年市場規(guī)模會出現(xiàn)明顯的增長。預計到2023年,基站領(lǐng)域GaN射頻器件的市場規(guī)模將達到5.21億美元,2018-2023年均復合增長率達到28%。

  2019中國5G建設(shè)高速發(fā)展,基站端GaN放大器同比增長達71.4%;到2020年,基站端GaN放大器市場規(guī)模達32.7億元,同比增長340.8%;預計到2023年基站端GaN放大器市場規(guī)模達121.7億元。

  據(jù)拓璞分析,GaN放大器需求數(shù)量2019-2013年保持快速增長,2023年達18117萬個。按照4寸GaN晶圓切400個計算,則需要GaN晶圓數(shù)量達45萬片。

  ▼ 中國5G基站GaN晶圓需求預測

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  (來源:拓璞)

  第三代半導體材料產(chǎn)業(yè)化的挑戰(zhàn)

  據(jù)CASA不完全統(tǒng)計,2018年國內(nèi)第三代半導體領(lǐng)域新增3條6英寸SiC產(chǎn)線(株洲中車時代、三安集成和國家電網(wǎng)能源互聯(lián)網(wǎng)研究院(中試線)的6寸線)。除上述3條線外,國內(nèi)泰科天潤和中電55所已有SiC產(chǎn)線,至此國內(nèi)目前至少已有5條SiC產(chǎn)線(包括中試線)。

  2018年國內(nèi)第三代半導體投資擴產(chǎn)熱度不減。據(jù)CASA不完全統(tǒng)計,目前國內(nèi)第三代半導體相關(guān)領(lǐng)域共有8起大的投資擴產(chǎn)項目,總投資額至少達到639億元。其中有4項與氮化鎵(GaN)材料有關(guān),包括外延片及芯片、電力電子及射頻器件等,投資擴產(chǎn)項目總額為220億元(與2017年的19億元相比,增加了近11倍);碳化硅(SiC)材料相關(guān)的襯底、外延及芯片、封裝測試、電力電子器件等項目的投資擴產(chǎn)總共4項,已披露的總額約為60億元(與2017年的65億元基本持平)。其他以先進半導體集成電路為名義的投資1起,投資金額近359億元,其中涉及建設(shè)一條SiC電力電子器件生產(chǎn)線。(十一科技三代半導體發(fā)展中心整理數(shù)據(jù))

  整體而言,我國在第三代半導體(電力電子和射頻領(lǐng)域)初步形成了從襯底到模組初步的產(chǎn)業(yè)鏈體系。

  第三代半導體材料產(chǎn)業(yè)化的挑戰(zhàn)是材料品質(zhì)。SiC同質(zhì)外延和Si基GaN異質(zhì)外延方面,作為應用最廣泛的兩種第三代半導體材料,目前商業(yè)化的最大尺寸為6英寸,為進一步降低器件成本,業(yè)界已經(jīng)研發(fā)出8英寸產(chǎn)品。其中,8英寸Si基GaN外延片的研發(fā)尤為活躍,2017年以來,業(yè)內(nèi)企業(yè)已經(jīng)成功研發(fā)出8英寸Si基GaN外延片,并在8英寸晶圓上成功開發(fā)出GaN電力電子器件。

  ▼ 2018年8英寸Si基GaN外延片及器件研發(fā)進展

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  (來源:CASA整理)

  結(jié)語

  從第三代半導體材料的技術(shù)趨勢來看,大尺寸和高質(zhì)量SiC生長技術(shù)是未來發(fā)展的趨勢,同質(zhì)外延依然是GaN器件的技術(shù)改進方向,所以高質(zhì)量GaN襯底的研發(fā)還將繼續(xù)

  從價格及成本趨勢來看,未來6英寸SiC襯底預計將降至5000元/片以下,GaN襯底價格有望降至500美元/片左右,并且隨著襯底和外延片尺寸的增加和生產(chǎn)規(guī)模的擴大,襯底和外延片的成本將有所下降。

  目前全球70-80%的第三代半導體材料SiC產(chǎn)量來自美國。在中美貿(mào)易摩擦持續(xù)發(fā)酵背景下,第三代半導體材料國產(chǎn)化替代進程有望持續(xù)加速,第三代半導體材料應用前景光明。


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