據(jù)介紹,與NAND芯片相比,中芯國際試產(chǎn)的ReRAM芯片具備諸多優(yōu)勢。另外,按計劃更先進(jìn)的28nm工藝ReRAM芯片也將在2017年上半年問世。
近日,中芯國際與Crossbar結(jié)晶即40nm ReRAM存儲芯片出樣,與NAND芯片相比,具備諸多優(yōu)勢。另外,按計劃更先進(jìn)的28nm工藝ReRAM芯片也將在2017年上半年問世。
目前在下一代存儲芯片的研發(fā)當(dāng)中,除了3D XPoint芯片外還有ReRAM芯片(非易失性阻變式存儲器)。中芯國際將采用自家的40nm CMOS試產(chǎn)ReRAM芯片。
據(jù)介紹,這種芯片比NAND芯片性能更強(qiáng),密度比DRAM內(nèi)存高40倍,讀取速度快100倍,寫入速度快1000倍,耐久度高1000倍,單芯片(200mm2左右)即可實現(xiàn)TB級存儲,還具備結(jié)構(gòu)簡單、易于制造等優(yōu)點。

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