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東芝開發(fā)出首款搭載TSV技術(shù)的3D閃存

  東芝內(nèi)存公司(Toshiba)宣布,公司已開發(fā)出全球首款采用硅穿孔(TSV)技術(shù)的BiCS FLASH三維(3D)閃存,該產(chǎn)品采用每單元三位(三階儲(chǔ)存單元,TLC)技術(shù)。用于開發(fā)目的的原型機(jī)已于6月開始出貨。
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  東芝內(nèi)存公司(Toshiba)宣布,公司已開發(fā)出全球首款采用硅穿孔(TSV)技術(shù)的BiCS FLASH三維(3D)閃存,該產(chǎn)品采用每單元三位(三階儲(chǔ)存單元,TLC)技術(shù)。用于開發(fā)目的的原型機(jī)已于6月開始出貨。

  采用TSV技術(shù)制造的器件具有垂直電極和貫穿硅芯片模的通孔以提供連接,這種結(jié)構(gòu)在降低功耗的同時(shí),可實(shí)現(xiàn)高速數(shù)據(jù)輸入和輸出。其實(shí)際性能在之前推出東芝二維NAND閃存時(shí)已得到驗(yàn)證。

  結(jié)合48層3D閃存制程和TSV技術(shù),使東芝內(nèi)存公司能夠成功增加產(chǎn)品程序設(shè)計(jì)帶寬,同時(shí)獲致低功耗。單一封裝的功率效率是采用引線接合技術(shù)制造的同一代BiCS FLASH閃存功率效率的近兩倍。TSV BiCS FLASH還在單一封裝內(nèi)實(shí)現(xiàn)了具有16顆粒堆棧式結(jié)構(gòu)的1TB存儲(chǔ)設(shè)備。

  東芝內(nèi)存公司將推動(dòng)采用TSV技術(shù)的BiCS FLASH的商業(yè)化,為包括高階企業(yè)級(jí)SSD在內(nèi)的儲(chǔ)存應(yīng)用提供理想的低延遲、高帶寬和高IOPS/watt解決方案。

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