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華虹半導(dǎo)體第三代Super Junction技術(shù)研發(fā)有望商用

第三代SJNFET工藝平臺將為客戶提供導(dǎo)通電阻更低、芯片面積更小、開關(guān)速度更快和開關(guān)損耗更低的高壓功率芯片產(chǎn)品解決方案。
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  華虹半導(dǎo)體有限公司近日宣布,公司已完成第三代Super Junction(超級結(jié)結(jié)構(gòu))MOSFET(SJNFET)工藝平臺的第一階段研發(fā),取得了初步成果,并計(jì)劃在2017年上半年逐步推向市場。據(jù)了解,第三代SJNFET工藝平臺將為客戶提供導(dǎo)通電阻更低、芯片面積更小、開關(guān)速度更快和開關(guān)損耗更低的產(chǎn)品解決方案。

  華虹半導(dǎo)體在功率器件產(chǎn)品穩(wěn)定量產(chǎn)上擁有逾10年的經(jīng)驗(yàn)。公司于2010年突破了深溝槽刻蝕填充工藝的世界級難題,推出了溝槽型SJNFET工藝平臺,令華虹半導(dǎo)體成為業(yè)界首家提供超級結(jié)工藝平臺的晶圓代工公司。經(jīng)過多年發(fā)展,華虹半導(dǎo)體在Super Junction技術(shù)領(lǐng)域積累了豐富的研發(fā)和生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn),相繼推出了第一代、第二代工藝平臺,并緊跟業(yè)界超級結(jié)產(chǎn)品的發(fā)展,持續(xù)進(jìn)行平臺的創(chuàng)新升級。

  華虹半導(dǎo)體最新研發(fā)的第三代SJNFET技術(shù)平臺不僅保持了前幾代工藝流程緊湊的特點(diǎn),而且還開發(fā)出了溝槽柵的新型結(jié)構(gòu),相比前兩代的平面柵結(jié)構(gòu),可以更有效地降低結(jié)電阻,且進(jìn)一步縮小了元胞(cell pitch)面積。導(dǎo)通電阻與第二代工藝相比,更是下降了30%以上,以600V器件為例,單位面積導(dǎo)通電阻Rsp實(shí)測值為1.2ohm.mm2。第三代SJNFET工藝平臺將為客戶提供導(dǎo)通電阻更低、芯片面積更小、開關(guān)速度更快和開關(guān)損耗更低的產(chǎn)品解決方案。

  功率半導(dǎo)體是開關(guān)電源、馬達(dá)驅(qū)動(dòng)、LED驅(qū)動(dòng)、新能源汽車和智能電網(wǎng)等電源系統(tǒng)的核心器件,也是降低功耗、提高效率的關(guān)鍵。在人們對高效節(jié)能越來越重視的現(xiàn)今,綠色能源技術(shù)必將得到更廣泛的應(yīng)用,功率半導(dǎo)體的需求也將持續(xù)提升。Super Junction技術(shù)憑借更低的功耗,高度契合當(dāng)前熱門的大功率快充電源、LED照明電源需求,其在傳統(tǒng)的PC電源及云服務(wù)器電源也有優(yōu)異的表現(xiàn)。

  華虹半導(dǎo)體執(zhí)行副總裁孔蔚然博士表示:“通過與客戶在設(shè)計(jì)優(yōu)化、系統(tǒng)解決方案及市場滲透方面的攜手努力,我們獨(dú)特且具競爭力的超級結(jié)MOSFET平臺自量產(chǎn)以來出貨量與日俱增,累計(jì)超過200,000片晶圓。華虹半導(dǎo)體新一代SJNFET工藝平臺的推出,將進(jìn)一步鞏固公司在功率分立器件領(lǐng)域的領(lǐng)先地位。我們將盡快實(shí)現(xiàn)第三代SJNFET工藝平臺的商用,以滿足客戶對更具競爭力的高壓功率芯片產(chǎn)品解決方案的需求。”

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